公司研究*Q2盈利短期承压,订单充足支撑业绩稳定增长——捷佳伟创2021半年报点评*电力设备与新能源*于夕朦,马晓明,黄楷 20210831
作者: 来源: 日期:2021-08-31 字号【
【内容摘要】

 

事件:公司发布2021年半年报,2021H1公司实现营业收入26.24亿元,同比增长38.62%;归母净利润4.58亿元,同比增长83.70%;毛利率为25.99%,同比下降1.70个pct;净利率为17.32%,同比增加4.29个pct;经营性现金流为5.46亿元,同比增长169.49%。

  Q2盈利短期承压,订单充沛支撑业绩稳定增长:2021Q2,公司实现营业收入14.47亿元,同比增长3.43%,环比增长22.89%;归母净利润2.47亿元,同比增长51.07%,环比增长16.67%;销售毛利率23.56%,环比下降5.41个pct。2021H1公司合同负债为37.49亿元,同比增长43.80%,存货为46.13亿元,同比增长46.87%,其中发出商品占比为62.69%,预计公司在手订单充足。此外,2021H1公司研发投入1.35亿元,同比增长141.26%,主要聚焦于HJT、TOPCON及半导体湿法清洗的设备研发。

  HJT电池设备+工艺进展快速,新突破有望开启降本新路径:7月20日,捷佳伟创常州研究院HJT中试线高效电池首片下线;8月18日,捷佳伟创首批管式异质结PECVD工艺电池顺利下线。通过自主研发HJT电池工艺技术,公司具备为客户提供HJT电池整线交钥匙工程的能力。管式PECVD具有投资成本低、占地面积小、开机率高、维护保养成本低等特点,有望成为HJT电池片大批量生产的降本的新路径。

  首批半导体清洗设备交付,成为半导体国产化新主力军:7月21日,捷佳伟创子公司创微微电子成功交付3套集成电路全自动槽式湿法清洗设备,标志着公司半导体业务迈入了新台阶。此外,公司正在设计制造中的设备还包含了用于MicroLED、第三代化合物半导体及集成电路IDM厂的槽式清洗设备及相关附属设备,涵盖了集成电路200mm以下近70%湿法工艺步骤,包含有光刻胶去除、氧化膜刻蚀、金属膜刻蚀、炉管前清洗及有机溶剂清洗等,公司半导体设备业务有望进入快速发展阶段。

  盈利预测及投资建议:我们预计公司2021-2023年营业收入分别为56.5376.38/95.30亿元,同比增长39.8%/ 35.1%/24.8%,归母净利润分别为9.17/12.77/16.10亿元,同比增长75.4%/39.2%/26.1%,对应EPS为2.64/3.67/4.63元,对应PE为76X、55X、43X。公司技术、产品优势居于行业龙头地位,横向拓展能力优秀,有望在新型高效光伏电池技术迭代和半导体设备进口替代进程中充分受益,我们给予公司22年60-65倍估值,对应目标价为220.43元-238.80元,维持“增持”评级。

  风险提示:行业竞争加剧风险,新产品拓展不及预期风险,新型高效电池片产能扩张不及预期风险,行业政策变化,宏观经济波动等。

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